第725章 忙碌的测试大神，车诗诗

车诗诗待在这里一年，好过他让测试工程师测试十天，这效率就是那么离谱。

但是现在车诗诗要走，他也没法阻拦。

现在研发三个部门的项目都紧张得很。

研发1部负责的大量工业软件，也是需要测试部门的全力协助。

他李泽东总不能因为自己的一些业绩就乱了部门的研发进度，从而让马总布置的任务不能按时完成。

但是现在听到研发一部已经搞出初版的EdA，李泽东还是很吃惊。

“嗯嗯，听刘总说，是因为之前有一群年轻的工程师非常执着于研究这些，因此非常投入去研究。最近基本全都突破啦，从光刻掩模版布局设计到数据验证分析的完整工具链都已经有成果。。”车诗诗点头说道，“那我先去研发1部啦？”

李泽东犹豫了片刻，说道，“好！研发1部那边的项目也很着急，车部长，那你先去吧。”

“好嘞！”车诗诗说完，就挥挥手说拜拜。

离开了初苗精工，她马不停蹄的就回到研发1部的EdA研发基地。

刘一首正在给项目的各个组长们布置新任务，并听取他们的汇报情况呢，见到车诗诗被带进来，立即就停止了讲话，快步走过去。

“哎呀呀，诗诗，你可算回来了！”刘一首热情激动的说道，“李泽东那小子也真是，竟然把你喊过去整整一周！真是太不厚道了！”

刘一首抱怨了李泽东几句，然后笑吟吟的说道，“诗诗呀， 我跟老蒋聊过了，以后呢，你一三五到研发一部，二四六到研发二部。”

“周天的时间，再去其他部门测试。你看怎样？”

车诗诗哭笑不得，只得说道，“好，好的，刘总。”

“哈哈哈，好呀，那就这样说定了。”刘一首大笑，虽然他说的大半是玩笑话，但是项目真的到了着急测试阶段，测试部门，特别是车诗诗还真得加个班。

刘一首说着，看了一眼旁边的工程师，说道：“诗诗，测试的事情，就让小梁跟你对接吧。现在EdA团队各个组长都24小时待命，咱们的工程师都在等着呢。”

“测试出了问题，要立即联系他们做修改。”

刘一首沉声说道，“紫晶工厂那边，光刻机已经有了新的突破，我们研发一部的压力很大呀。必须尽快的测试好EdA，提供给紫晶工厂。”

刘一首也是有些无奈以及紧张的说着。

这么大的项目，以前他是想都不敢想，但是现在也是被逼着做了。

好在他也有个老师求伯君一起干，不然这工业软件，他一个人也玩不转。

车诗诗认真的听着，问道：“刘总，光刻机，这是要很快正式投入使用了吗？”

刘一首肯定的点头，“对的，图灵灵那边的数据中心扩建，需要大量的算力芯片！”

“研发3部程序言那边也设计出几款新的芯片需要生产，还有研发2部需要的电击芯片、雷达芯片，六菱汽车的车载芯片……”

刘一首一一列举，需要芯片的部门不下十个。

“咱们的初心，可太迫切了！”刘一首感慨道，“紫晶工厂那边的意思是，最迟两个月，就对第一台13Nm光刻机进行整体试验。”

“因此，在这两个月内，我们的配套软件，必须得跟上。”刘一首压力山大的说道。

车诗诗十分吃惊，没想到进度竟然这么快。

刘一首简单的安排了一下后，便去其他的地方跟进项目的情况。

而车诗诗，也向测试部门安排在这边的测试总监梁月询问了具体的情况。

“梁月，现在这边的测试情况是怎样？”车诗诗找了个办公室，向梁月询问道。

梁月是个三十五岁的测试工程师，以前是搞嵌入式开发的，后来发现测试比开发要轻松，便开始转型。

来到初苗集团后，也是从底层测试员做起，一直到现在火箭似的两年时间成为部门测试总监级别的管理层。

面对部门老大的询问，梁月立即说道：“车总，目前由咱们研发1部同事自主研发的opc、Smo、ILt。都已经有了初版实现。”

“最近我主要先做opc的测试……”梁月详细的介绍自己当前的测试进度。

“等等，你先说一下这opc，”车诗诗打断说道，“最近我一直都在跟机械设备打交道，软件这部分，已经从脑子里挤出来了都。”

“好的，车总。”梁月一笑，立即仔细的介绍了一遍各种技术的的情况。

“opc，就是光学邻近效应修正。其作用是在设计图形中加入精确计算的补偿，抵消光线衍射带来的失真。”梁月说道。

“在追求极致精度的同时，必须在计算复杂度、物理精确度和海量数据之间找到脆弱的平衡点。随着芯片制程不断逼近物理极限，这些挑战也愈发严峻。”

“嗯，我先从物理层面说吧。”梁月想起遇到的难题，说道：“opc依赖物理模型，其精度直接决定了修正效果的上限。因此，在我们测试的时候，还需要结合紫晶工厂那边的实际物理模型进行测试。”

车诗诗一边听，一边做着简短的记录，“好，你继续说。”

“物理模型方面的难点有三大方面，这也是我们测试的时候容易达不到测试要求的标准情况，影响测试的物理模型三大难点分别为：从标量到矢量的难点，三维掩模效应和光刻胶。”

“随着光刻图形尺寸远小于光源波长，传统的标量衍射模型已不再准确，必须采用更复杂的矢量电磁场模型来精确描述光与掩模上微小结构的相互作用。这就是从标量到矢量的难点。”

梁月见到车诗诗皱着眉记录着，便稍作停顿。然后继续说道，“掩模本身是一个三维结构（如复杂的吸收层），光通过时会引发复杂的偏振、散射效应，这被称为“厚掩模效应”。对其进行高精度建模是当前的一大挑战。”

“而我们需要对其模型进行测试，验证其是否可用。这直接就影响到后续opc的测试。”

车诗诗的眉头越皱越紧，“怎么感觉测试内容比精工那边多得多。”